BEIJING: China dilapor memulakan pengeluaran terhad mesin litografi ultralembayung dalam (DUV) jenis imersi yang dibangunkan di dalam negara, dalam usaha mengurangkan pergantungan kepada teknologi dan rantaian bekalan luar.
Langkah itu dilihat sebagai usaha Beijing untuk mencabar dominasi syarikat Belanda, ASML, dalam pasaran peralatan litografi semikonduktor global.
Menurut laporan The Information yang dipetik Amanz, projek berkenaan diterajui oleh sebuah syarikat yang disokong kerajaan di Shanghai.
Identiti syarikat itu tidak didedahkan berikutan sensitiviti program berkenaan.
Mesin litografi yang dihasilkan dijangka dihantar tahun ini kepada tiga pengeluar cip utama China iaitu Semiconductor Manufacturing International Corp (SMIC), Hua Hong Semiconductor dan ChangXin Memory Technologies (CXMT) untuk proses penilaian dan pengesahan.
Laporan itu berkata kira-kira lima mesin DUV imersi dijangka dihasilkan pada tahun ini sebelum kapasiti pengeluaran ditingkatkan kepada sekitar 20 unit pada 2027.
Pembangunan teknologi itu dipercepatkan susulan sekatan eksport teknologi semikonduktor yang dikenakan Amerika Syarikat terhadap China sejak beberapa tahun kebelakangan ini.
Sistem DUV imersi tersebut dilaporkan mampu menghasilkan cip 28 nanometer (28nm) menggunakan satu pendedahan cahaya, selain berpotensi menghasilkan cip yang lebih maju menerusi teknik corak berganda (multi-patterning).
Bagaimanapun, penganalisis berkata teknologi berkenaan masih ketinggalan dari segi prestasi, kebolehpercayaan dan produktiviti berbanding sistem litografi keluaran ASML yang digunakan dalam pembuatan cip generasi lebih maju.
Walaupun begitu, perkembangan tersebut dilihat sebagai pencapaian penting dalam usaha China membangunkan ekosistem semikonduktor yang lebih berdikari serta mengurangkan kebergantungan kepada teknologi asing.
